Полная

Полный день

Высшее
2008-2014 гг-Московский государственный университет тонких химических технологий им. М.В. Ломоносова
Факультет химии и технологии редких элементов и материалов электронной техники
Специализация: «Материаловедение и технологии материалов»
Степень: магистр

Немецкий язык — технический уровень

09.2013-06.2014 гг-Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук
Инженер (научно-исследовательская практика)
-Принимал участие в исследовании процесса эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур
-Получил опыт работы на установке молекулярно-пучковой эпитаксии

12.2014 - 04.2015 гг.
ОА "Оптрон",г.Москва, инженер
Пуско-наладка установки для выращивания полупроводниковых структур методом МОС-гидридной эпитаксии;
Пуско-наладка установки для шлифовки и полировки полупроводниковых пластин

04.2015 - 04.2016 гг.
ВС РФ,г.Торжок, стрелок

Уверенный пользователь ПК (MS Office: Word, Excel, PowerPoint; Internet; Origin)

Личные качества:работоспособность,дисциплинированность,ответственность за достижение результата,целеустремленность